ГлавнаяГлавная » Труды ученых ГрГУ им. Янки Купалы » Физические науки » Равномерность ионного потока в лазероплазменном источнике для нанесения нанопокрытий

Равномерность ионного потока в лазероплазменном источнике для нанесения нанопокрытий

Библиографическое описание документа: Равномерность ионного потока в лазероплазменном источнике для нанесения нанопокрытий
/ В. К. Гончаров [и др.] // Физика и диагностика лабораторной и астрофизической плазмы = Physics and diagnostics of laboratory and astrophysical plasmas : труды XIII Белорусско-Сербского симпозиума, Минск, 13-17 дек. 2021 г. – Минск : Ковчег, 2021. – С. 5-8. 
Статья
Авторы:Гончаров В. К. Пузырев М. В. Ступакевич В. Ю. Шульган Н. И.
Ключевые слова: Сотрудник ГрГУ, Нанопленки, Эрозионный лазерный факел, Нанопокрытия
URI документа:

(Используйте для цитирования и ссылки на документ)

https://elib.grsu.by/doc/79057
Расположен в разделе: Физические науки
Полный текст документа:
Файл Размер(мб)Формат
764692_339642pdf.pdf 8.66PDF file Открыть/просмотреть

Статистика по документу

Общее количество загрузок: 138

Вестник ГрГУ UNIVERSUM Научная библиотека